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研究用小型スパッタリング装置

活用事例
研究用小型スパッタリング装置
担当部所材料・分析技術部 無機材料グループ
メーカ名キャノンアネルバ(株)
メーカ商品名/型式スパッタリング装置/E-200S
性能・仕様カソード:Φ2”マグネトロンカソード3機(1機は強磁性体用)電源:300W高周波電源2機、500W直流電源1機(3元同時成膜可能)、成膜:静止対向成膜、回転成膜、基板サイズ:直径100mm以下、基板加熱 :ランプ加熱方式(~800℃)
用途セラミックスや金属といった無機物の薄膜を作製する装置
対象試料セラミックス、金属材料など
設置年月-
利用料金1時間につき 2,000円
機器利用研修費初回に機器利用研修費3,000円が必要
注意事項
ターゲットサイズを直径50.8mm、厚さ3mmに調整