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集束イオンビーム加工装置

メーカー名 日本エフイ-・アイ 株式会社
メーカー
商品名/型式
集束イオンビーム加工装置 / Versa 3D Dual Beam
性能・仕様 電子線分解能: 1.2nm, 入射電圧: 50V-30kV, 最大プロ-ブ電流: 200nA, イオンビ-ム分解能: 7.0nm, 入射電圧: 500V-30kV, プロ-ブ電流: 1.5pA-65nA, 分析可能元素: B ~U, その他の装備:BSE検出器, STEM検出器, OmniProbe
用途 金属材料、セラミックス材料、高分子材料など固体材料の断面加工、薄片化加工、および、その元素分析(定性、定量、線分析および面分析)他。
対象試料 金属材料、セラミックス材料、半導体材料、高分子材料など。(真空中で安定で、電子線により分解しないもの。)
利用料金 10,000円/時間
機器利用
研修費
受講料5,000円
設置場所 神戸
注意事項 装置トラブルのため集束イオンビーム加工装置を用いた反射電子像観察透過電子像観察の外部利用を停止します。 (2024 04/23~)
設置年月 2012年10月
担当部署 材料・分析技術部 無機材料グループ
業務コード 3011820

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