研究用小型スパッタリング装置

メーカー名	キャノンアネルバ(株)
メーカー商品名/型式	スパッタリング装置／E-200S
性能・仕様	カソード：Φ2”マグネトロンカソード3機（1機は強磁性体用）電源：300W高周波電源2機、500W直流電源1機（3元同時成膜可能）、成膜：静止対向成膜、回転成膜、基板サイズ：直径100mm以下、基板加熱　：ランプ加熱方式（～800℃）
用途	セラミックスや金属といった無機物の薄膜を作製する装置
対象試料	セラミックス、金属材料など
利用料金	2,000円／時間
機器利用研修費	受講料3,000円
設置場所	神戸
注意事項	ターゲットサイズを直径50.8mm、厚さ3mmに調整
設置年月
担当部署	材料・分析技術部無機材料グループ
業務コード	3060910

スパッタ、薄膜作製、RF電源、直流電源、３元ターゲット、反応性スパッタ、酸素ガス、窒素ガス、基板加熱