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研究用小型スパッタリング装置

メーカー名 キャノンアネルバ㈱
メーカー
商品名/型式
スパッタリング装置/E-200S
性能・仕様 カソード:Φ2”マグネトロンカソード3機(1機は強磁性体用)電源:300W高周波電源2機、500W直流電源1機(3元同時成膜可能)、成膜:静止対向成膜、回転成膜、基板サイズ:直径100mm以下、基板加熱 :ランプ加熱方式(~800℃)
用途 セラミックスや金属といった無機物の薄膜を作製する装置
対象試料 セラミックス、金属材料など
利用料金 2,000円/時間
機器利用
研修費
受講料3,000円
設置場所 神戸
注意事項 ターゲットサイズを直径50.8mm、厚さ3mmに調整
設置年月
担当部署 材料・分析技術部 無機材料グループ
業務コード 3060910

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