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X線光電子分光分析装置

メーカー名 アルバック・ファイ㈱
メーカー
商品名/型式
走査型X線光電子分光分析装置/PHI5000 VersaProbe II
性能・仕様 X線源:単色化Al、デュアルアノード(Mg/Zr) 中和銃:0〜10eV ビーム径:最⼩10μm(Al使用時) 試料ステージ:XY軸±25mm、Z軸+20mm、傾斜0〜90°、面内回転360°検出器:静電半球形エネルギーアナライザ(16ch、分解能0.5eV) イオン銃:Arイオン銃、Arガスクラスターイオン銃(GCIB)その他:UPS用紫外光源搭載、データ解析用ソフトMultiPak搭載
用途 最表面の組成分析、化学状態・化学結合状態の分析、深さ方向の分析
対象試料 半導体、金属・合金、セラミックス、高分子などの表面、粉末試料、多層膜の深さ方向分析
利用料金 6,700円/時間
機器利用
研修費
受講料5,000円
設置場所 神戸
注意事項 ・試料ホルダーは、標準ホルダー(φ1インチorφ2インチ)、リセスホルダー(φ1インチ)、角度分解測定用ホルダーの四種類。
・試料高さ
 標準ホルダー:8mm以内
 リセスホルダー:13mm以内(ただし縦横は2cmm x 1cm以内)
 角度分解:8mm以内(ただし縦横1cm x 1cm以内)
・複数の試料をホルダーに載せて測定する場合は、高さを合わせること。
・USBメモリー等の使用は禁止。データはCD-Rにて持ち帰ること。
・試料は真空中で安定であること。
設置年月 2012年12月
担当部署 材料・分析技術部 化学材料グループ
業務コード 3111700

 本測定装置は固体試料表面に単色化した軟X線を照射し、光電効果で励起される光電子の運動エネルギーを分光することで、試料表面の元素組成並びに化学結合状態を定性・定量分析する装置である。特に本装置は、10μm程度のX線ビームを走査することで、2次元方向での元素組成及びその化学結合状態の情報を得ることが可能であり、X励起による電子像(走査X線イメージ, SXI)を得ることができる。さらに同一元素についても化学結合状態の違いによる元素マッピングも得ることが可能である。  従来のXPS分析では有機物試料の深さ方向分析を行う際に、試料に損傷を与え分析を困難としていたが、本装置にはArガスクラスターイオン(GCIB)銃を搭載しており、スパッタやクリーニングにおいて低損傷による分析を可能としている。  UPS(紫外線光電子分光法)測定用紫外光源を装備しており、価電子帯の測定や仕事関数の測定をすることができる。  従来からのX線源(Mg/Zr)も搭載しており、オージェ電子ピークとの重なりを避けることができる。

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