大気圧ヘリウムプラズマ照射を援用した光触媒反応向上による水素発生プロセスの開発

　本研究は、酸化チタン光触媒の可視光応答性向上を目的に、大気圧および低真空下でヘリウムプラズマを用いた表面改質による窒素（N）イオンドープの実現を目指した。大気圧下ではNH₃ガス由来の窒素は表面に積層するのみでイオンドープは困難であったが、低真空下でのプラズマ処理によりN成分分率3 atomic %以上のドープを確認できた。さらに、作製した酸化チタン試料ではメチレンブルー分解試験により可視光応答性の向上も確認された。これにより、低真空プラズマ表面改質によるNイオンドープで応答性光触媒特性の発現が可能であることが示されたが、水素発生の実証には至っておらず、今後の改善研究が課題である。（AIによる要約）

試料台バイアスの印加方法